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MNL X00

제조사: LTB Lasertechnik Berlin GmbH (독일)

MNL X00

337.1 nm 고속 자동화 분석을 위한 UV 레이저

Power supply
24 VDC
Power consumption
2.4A
Max / Avg power consumption
84 VA
Operating temperature
+15 … +38°C
Storage temperature
-10 … +60°C
Max. relative humidity
85 (non-condensing)%
Air pressure
750 – 1,300 mbar
Dimensions (L x W x H)
321 x 95 x 95 mm
Weight
3.5 kg
Power supply Dimensions
180 x 80 x 50 mm
Power supply Weight
0.6 kg

MNL X00 제품특징

MNL X00는 고속 대량 분석(High Throughput) 시스템에 최적화된 차세대 모델입니다. 최대 150Hz(요청 시 200Hz)의 높은 반복률과 최대 4억 회의 경이로운 펄스 수명을 자랑합니다. 3ns의 짧은 펄스 폭과 0.1nm 이하의 좁은 스펙트럼 대역폭으로 고해상도 분석에 최적화되어 있습니다.

  • 고속 반복률: 최대 150Hz~200Hz 지원으로 고속 공정 대응
  • 최장 수명: 최대 4억 회의 펄스 수명으로 소모품 교체 주기 극대화
  • 좁은 대역폭: 0.1nm 미만의 정밀한 스펙트럼 폭 제공
  • 실시간 모니터링: 통합 에너지 모니터와 감쇠기(Attenuator) 옵션 제공
  • 높은 정밀도: ±2.5ns 수준의 매우 낮은 시간 지터(Jitter)

MNL X00 어플리케이션

  • 고속 바이오 리더기
  • 고처리량 MALDI 이미징
  • 고속 자동 산업 검사

Model

항목 (Parameter) 단위 MNL X00 MNL X06 MNL X12 / X15
Wavelength nm 337.1 337.1 337.1
Spectral bandwidth nm 0.1 0.1 0.1
Pulse halfwidth FWHM, typ. ns 3 3 3
Guaranteed pulse quantity Mio 400 120 150
Guaranteed pulse energy µJ ≥ 110 ≥ 70 ≥ 60
Pulse energy, typ. @ Mio shots µJ 110 @ 100 60 @ 200 50 @ 200
Pulse power, typ. kW 37 23 20
Repetition rate max Hz 60 120 150
Energy stability SD % ≤ 2 ≤ 2 ≤ 2
Beam dimensions (V x H), typ. mm 3 x 4 3 x 4 3 x 4
Beam divergence (V x H) mrad ≤ 3.5 x ≤ 3 ≤ 3.5 x ≤ 3 ≤ 3.5 x ≤ 3
Focus stability µm < 15 < 15 < 15
Beam exit angle (V x H), typ. deg 0.5(±0.2)x0±0.1 0.5(±0.2)x0±0.1 0.5(±0.2)x0±0.1
Trigger in - <- Optical or electrical (TTL) ->
Jitter: ext. trigger – laser pulse ns ± 2.5 ± 2.5 ± 2.5
Pulse delay: ext. trigger – laser ns 1,300 ± 10% 1,300 ± 10% 1,300 ± 10%
Jitter: electr. trigger exit ns < 0.2 < 0.2 < 0.2
Warm-up time s < 20 < 20 < 20
Control - <- Automode or software (DLL) ->
Warranty - 400M / 4 years 120M / 2 years 150M / 2 years
Certifications - <- CE, ETL, (UL, CSA), FDA ->
Laser class - 3B / IIIb 3B / IIIb 3B / IIIb

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